Electron gun and electron beam exposure system
WO2008120341
Art A1
9. Oktober 2008
Anmelder: Advantest Corporation, Meijo University Educational Foundation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008120341
- Aktenzeichen
- EP07740238
- Anmeldetag
- 29. März 2007
- Veröffentlichung
- 9. Oktober 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/065H01J3/02H01J37/305
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Advantest Corporation
Meijo University Educational Foundation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Advantest
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.
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