Multi-column electron beam exposure device and multi-column electron beam exposure method

WO2008120391 Art A1 9. Oktober 2008

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008120391
Aktenzeichen: EP07740412
Anmeldetag: 29. März 2007
Veröffentlichung: 9. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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