Exposure apparatus and exposure method

WO2008120785 Art A1 9. Oktober 2008

Anmelder: NSK Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008120785
Aktenzeichen: EP08739526
Anmeldetag: 31. März 2008
Veröffentlichung: 9. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02F1/1368H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NSK Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NSK

Japanischer Hersteller von Wälzlagern und Präzisionsmaschinenkomponenten mit Sitz in Tokio, unter anderem für Automobil- und Industrieanwendungen.

1.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen