In-line lithography and etch system

WO2008121955 Art A2 9. Oktober 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008121955
Aktenzeichen: EP08744767
Anmeldetag: 31. März 2008
Veröffentlichung: 9. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01R31/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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