Method for film formation, resin composition for use in the method, structure having insulating film, process for producing the structure, and electronic component

WO2008123049 Art A1 16. Oktober 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008123049
Aktenzeichen: EP08722310
Anmeldetag: 17. März 2008
Veröffentlichung: 16. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/16G03F7/004G03F7/023H01L21/3205H01L23/52H05K3/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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