Plasma processing apparatus

WO2008123142 Art A1 16. Oktober 2008

Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008123142
Aktenzeichen
EP08738701
Anmeldetag
21. März 2008
Veröffentlichung
16. Oktober 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H05H1/24H01L21/304H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Sekisui Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

2.973 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

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