Sno2 sputtering target and sputtered film

WO2008123170 Art A1 16. Oktober 2008

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008123170
Aktenzeichen: EP08722680
Anmeldetag: 24. März 2008
Veröffentlichung: 16. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/457C23C14/08H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von