Radiation-sensitive resin composition, active matrix substrate and method for producing the same

WO2008123233 Art A1 16. Oktober 2008

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008123233
Aktenzeichen: EP08738832
Anmeldetag: 25. März 2008
Veröffentlichung: 16. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786G02F1/1333G03F7/004G03F7/032G03F7/033G03F7/037H01L21/312H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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