Process for producing semiconductor device

WO2008126197 Art A1 23. Oktober 2008

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008126197
Aktenzeichen: EP07739105
Anmeldetag: 20. März 2007
Veröffentlichung: 23. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8246H01L21/768H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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