Structure and method for dual work function metal gate electrodes by control of interface dipoles

WO2008127484 Art A2 23. Oktober 2008

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008127484
Aktenzeichen: EP07873695
Anmeldetag: 28. Dezember 2007
Veröffentlichung: 23. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Texas Instruments Incorporated
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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