Process for producing semiconductor thin film and semiconductor device
WO2008129719
Art A1
30. Oktober 2008
Anmelder: Mitsubishi Electric Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008129719
- Aktenzeichen
- EP07850098
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/20H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Electric Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Electric
Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.
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