Composition for etching and method of etching

WO2008129891 Art A1 30. Oktober 2008

Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008129891
Aktenzeichen: EP08710805
Anmeldetag: 5. Februar 2008
Veröffentlichung: 30. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308C23F1/14C23F1/30C23F1/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tosoh Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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