Focused ion beam deep nano-patterning apparatus and method

WO2008132734 Art A2 6. November 2008

Anmelder: Technion Research & Development Foundation Ltd. 🇮🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008132734
Aktenzeichen: EP08738260
Anmeldetag: 27. April 2008
Veröffentlichung: 6. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01J37/305H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Technion Research & Development Foundation Ltd.
Land: 🇮🇱 Israel

🇮🇱 Technion Research & Development Foundation Ltd.

Israelische Technologietransfer-Organisation des Technion (Israel Institute of Technology), zuständig für Patentierung und Kommerzialisierung von Forschungsergebnissen. Sitz in Haifa, Israel.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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