Compound, acid generator, resist composition, and method for forming resist pattern

WO2008132966 Art A1 6. November 2008

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008132966
Aktenzeichen: EP08739886
Anmeldetag: 4. April 2008
Veröffentlichung: 6. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/10C07C381/12G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von