Resist protective film composition for immersion lithography
WO2008133311
Art A1
6. November 2008
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008133311
- Aktenzeichen
- EP08752070
- Anmeldetag
- 24. April 2008
- Veröffentlichung
- 6. November 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C08F36/20C08F220/22C08L33/14H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
7.331 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.