Photoresist base material and photoresist composition containing the same

WO2008136372 Art A1 13. November 2008

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008136372
Aktenzeichen: EP08752083
Anmeldetag: 25. April 2008
Veröffentlichung: 13. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039H01L21/027C07C43/23C07C69/734

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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