Semiconductor thin film, semiconductor thin film manufacturing method and semiconductor element

WO2008139860 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008139860
Aktenzeichen: EP08751942
Anmeldetag: 23. April 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C01B13/14C01G15/00C23C14/08C23C14/58

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

2.158 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von