Photomask blank and photomask

WO2008139904 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008139904
Aktenzeichen: EP08752163
Anmeldetag: 25. April 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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