Valve and processing device with the valve

WO2008139937 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008139937
Aktenzeichen: EP08740947
Anmeldetag: 30. April 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: F16K3/18F16K3/00F16K3/02F16K3/04F16K27/04F16K51/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik

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