Photosensitive resin composition, photosensitive element, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board

WO2008140016 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008140016
Aktenzeichen: EP08752442
Anmeldetag: 8. Mai 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004G03F7/027H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von