Photoresist Developing Solution

WO2008140083 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008140083
Aktenzeichen: EP08752654
Anmeldetag: 13. Mai 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/023G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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