Methods and systems for detecting defects in a reticle design pattern
WO2008141064
Art A1
20. November 2008
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008141064
- Aktenzeichen
- EP08755151
- Anmeldetag
- 8. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 20. November 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
495 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.