Laser activated fluorine treatment of silicon substrates

WO2008141118 Art A1 20. November 2008

Anmelder: Linde, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008141118
Aktenzeichen: EP08769354
Anmeldetag: 9. Mai 2008
Veröffentlichung: 20. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Linde, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇩🇪 Linde

Deutscher Industriegasekonzern mit Wurzeln in München, gegründet 1879. Entwickelt und liefert technische Gase sowie Anlagen zur Gasverarbeitung für Industrie, Medizin und Energiewirtschaft.

3.677 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von