Mems sensor and method of manufacturing the same
WO2008143191
Art A1
27. November 2008
Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008143191
- Aktenzeichen
- EP08752907
- Anmeldetag
- 16. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 27. November 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01P15/12G01P15/125H01L29/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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