An apparatus, a system and a method of preventing premature drying

WO2008143798 Art A1 27. November 2008

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008143798
Aktenzeichen: EP08767650
Anmeldetag: 7. Mai 2008
Veröffentlichung: 27. November 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/04F26B5/04B08B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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