Deposition burner and method for the manufacture thereof, use of the deposition burner and method for the production of a quartz glass body by using the deposition burner

WO2008145575 Art A2 4. Dezember 2008

Anmelder: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008145575
Aktenzeichen: EP08759827
Anmeldetag: 21. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C03B23/047C03B19/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Heraeus Quarzglas

Deutscher Hersteller von Quarzglas, das für optische Komponenten, Halbleiterfertigung, Beleuchtung und industrielle Anwendungen wie Lichtwellenleiter und Hochtemperaturprozesse eingesetzt wird.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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