Verfahren zur Herstellung einer Gasdichten Keramischen Schicht und Keramische Schicht

WO2008145660 Art A2 4. Dezember 2008

Anmelder: Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008145660
Aktenzeichen: EP08760109
Anmeldetag: 27. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01M8/12C23C4/06C23C4/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt

Deutsches Forschungszentrum für Luftfahrt, Raumfahrt, Energie und Verkehr mit Hauptsitz in Köln. Das DLR ist zugleich die deutsche Raumfahrtagentur und betreibt zahlreiche Institute im gesamten Bundesgebiet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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