Composition for antireflection film formation and method for resist pattern formation using the composition

WO2008146626 Art A1 4. Dezember 2008

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008146626
Aktenzeichen: EP08752881
Anmeldetag: 16. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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