Semiconductor device manufacturing method, semiconductor manufacturing apparatus and storage medium

WO2008146879 Art A1 4. Dezember 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008146879
Aktenzeichen: EP08776968
Anmeldetag: 29. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/285H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von