Substrate for liquid discharge head, method of manufacturing the same, and liquid discharge head using such substrate
WO2008146894
Art A1
4. Dezember 2008
Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008146894
- Aktenzeichen
- EP08764873
- Anmeldetag
- 23. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B41J2/05B41J2/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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