Exposure method and apparatus, and method for producing device

WO2008146946 Art A2 4. Dezember 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008146946
Aktenzeichen: EP08765068
Anmeldetag: 28. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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