Boron nitride and boron nitride-derived materials deposition method

WO2008147689 Art A1 4. Dezember 2008

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008147689
Aktenzeichen: EP08755413
Anmeldetag: 13. Mai 2008
Veröffentlichung: 4. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/24C01B21/064

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik

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