Methods for producing an antireflection surface on an optical element, optical element and associated optical arrangement

WO2008148462 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008148462
Aktenzeichen: EP08758606
Anmeldetag: 19. Mai 2008
Veröffentlichung: 11. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11C03C15/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

Vertreten von