Reflective optical element and method for operating an euv lithography device
WO2008148516
Art A2
11. Dezember 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008148516
- Aktenzeichen
- EP08758965
- Anmeldetag
- 3. Juni 2008
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K1/06G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Werner, Anne-Estelle
Münster, Deutschland
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