Semiconductor production apparatus and process

WO2008149446 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008149446
Aktenzeichen
EP07744898
Anmeldetag
7. Juni 2007
Veröffentlichung
11. Dezember 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/283H01L21/28H01L21/316H01L21/677H01L29/423H01L29/49H01L29/78
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Canon Anelva Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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