Sputtering apparatus for forming thin film

WO2008149635 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: Yamaguchi University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008149635
Aktenzeichen: EP08752507
Anmeldetag: 9. Mai 2008
Veröffentlichung: 11. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Yamaguchi University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Yamaguchi University

Die Yamaguchi University ist eine japanische staatliche Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Pharma und Medizintechnik, ergänzt um organische Chemie, Halbleiter- und Messtechnik sowie Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken ein breites Spektrum von Geopolymer-Baustoffen bis zu Halbleitermaterialien wie Galliumoxid ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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