Fluid control apparatus

WO2008149702 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Fujikin Incorporated 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008149702
Aktenzeichen: EP08764661
Anmeldetag: 26. Mai 2008
Veröffentlichung: 11. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: F16K27/00F17D1/04H01L21/02C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Fujikin Incorporated
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von