Patterning method

WO2008149989 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Chou, Pao-Hwa 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008149989
Aktenzeichen: EP08765296
Anmeldetag: 6. Juni 2008
Veröffentlichung: 11. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Chou, Pao-Hwa
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von