Hardmask composition having antireflective properties and method of patterning material on substrate using the same

WO2008150058 Art A1 11. Dezember 2008

Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008150058
Aktenzeichen: EP07860834
Anmeldetag: 31. Dezember 2007
Veröffentlichung: 11. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CHEIL INDUSTRIES INC.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

772 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von