Agent for stripping resist film on electroconductive polymer, method for stripping resist film, and substrate with patterned electroconductive polymer

WO2008152907 Art A1 18. Dezember 2008

Anmelder: Toagosei Co., Ltd, Tsurumi Soda Co, Ltd., Nagase ChemteX Corporation, NAGASE & COMPANY, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008152907
Aktenzeichen: EP08764734
Anmeldetag: 27. Mai 2008
Veröffentlichung: 18. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Toagosei Co., Ltd
Tsurumi Soda Co, Ltd.
Nagase ChemteX Corporation
NAGASE & COMPANY, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 TOAGOSEI CO., LTD.

Toagosei ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, bekannt für Klebstoffe wie Aron Alpha. Die Patente betreffen Polymere, Klebstoffe und Spezialchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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