Micro wave plasma processing device, micro wave plasma processing method, and micro wave transmitting plate

WO2008153013 Art A1 18. Dezember 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008153013
Aktenzeichen: EP08765376
Anmeldetag: 10. Juni 2008
Veröffentlichung: 18. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/316H01L21/318H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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