Cyclic compound, photoresist base material and photoresist composition

WO2008153154 Art A1 18. Dezember 2008

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008153154
Aktenzeichen: EP08777216
Anmeldetag: 13. Juni 2008
Veröffentlichung: 18. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C07C69/767G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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