Semiconductor device, and its manufacturing method

WO2008155832 Art A1 24. Dezember 2008

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008155832
Aktenzeichen: EP07767237
Anmeldetag: 20. Juni 2007
Veröffentlichung: 24. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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