Polishing composition, method for polishing the surface of semiconductor integrated circuit, and method for production of copper interconnect for semiconductor integrated circuit
WO2008155987
Art A1
24. Dezember 2008
Anmelder: Asahi Glass Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008155987
- Aktenzeichen
- EP08765043
- Anmeldetag
- 3. Juni 2008
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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