Apparatus and method for measuring pattern pitch and apparatus and method for inspecting surface

WO2008156053 Art A1 24. Dezember 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008156053
Aktenzeichen: EP08765657
Anmeldetag: 16. Juni 2008
Veröffentlichung: 24. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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