Methods of and apparatus for protecting a region of process exclusion adjacent to a region of process performance in a process chamber

WO2008156542 Art A1 24. Dezember 2008

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008156542
Aktenzeichen: EP08767843
Anmeldetag: 20. Mai 2008
Veröffentlichung: 24. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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