Methods of fabricating nanostructures by use of thin films of self-assembling of diblock copolymers, and devices resulting from those methods

WO2008156977 Art A2 24. Dezember 2008

Anmelder: Micron Technology, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008156977
Aktenzeichen: EP08769757
Anmeldetag: 28. Mai 2008
Veröffentlichung: 24. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08J9/28G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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