Semiconductor device and method for manufacturing the same

WO2009001780 Art A1 31. Dezember 2008

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009001780
Aktenzeichen: EP08777491
Anmeldetag: 20. Juni 2008
Veröffentlichung: 31. Dezember 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/316H01L21/822H01L23/522H01L27/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Rohm Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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