Wafer level alignment structures using subwavelength grating polarizers

WO2009002716 Art A1 31. Dezember 2008

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009002716
Aktenzeichen
EP08770844
Anmeldetag
12. Juni 2008
Veröffentlichung
31. Dezember 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.631 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen