Substrate treatment method, substrate treatment apparatus, reducing agent sheet, and computer-readable storage medium

WO2009004906 Art A1 8. Januar 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009004906
Aktenzeichen: EP08777173
Anmeldetag: 12. Juni 2008
Veröffentlichung: 8. Januar 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304F27D7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik

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